去膜
去膜使用3~5%的氫氧化鈉溶液,溫度50一60℃,去膜方式可槽式浸泡,也可機(jī)器噴淋。 槽式浸泡是板子上架后浸泡到去膜溶液中,數(shù)分鐘后膜變軟脫落,取出后立即用水沖洗,膜就 可以去除干凈,銅表面也不會(huì)被氧化。機(jī)器噴淋去膜生產(chǎn)效率高,但應(yīng)注意檢查噴嘴是否堵塞,在去膜溶液中必須加入消泡劑。
修版
修版包括兩方面,一是修補(bǔ)圖像上的缺陷,一是除去與要求圖像無關(guān)的疵點(diǎn)。 上述缺陷產(chǎn)生的大體原因是:干膜本身有顆粒或機(jī)械雜質(zhì);基板表面粗糙或凹凸不平;操 作工藝不當(dāng)如板面污物及貼膜小皺折;照相底版及真空框架不清潔等。為減少修版量,應(yīng)特別 注意上述問題。
修版液可用蟲膠、瀝青、耐酸油墨等。
蟲膠修版液配方如下:
蟲膠100~150g/1
甲基紫1~2g/1
用無水乙醇配制。
修版時(shí)應(yīng)注意戴細(xì)紗手套,以防手汗污染板面。